侵权投诉
订阅
纠错
加入自媒体

光伏百科:硅片清洗及原理

  清洗时,一般应在75~85℃条件下清洗、清洗15 分钟左右,然后用去离子水冲洗干净。Ⅰ号清洗剂(APM)和Ⅱ号清洗剂(HPM)有如下优点:

  (1)这两种清洗剂能很好地清洗硅片上残存的蜡、松香等有机物及一些重金属如金、铜等杂质;

  (2)相比其它清洗剂,可以减少钠离子的污染;

  (3)相比浓硝酸、浓硫酸、王水及铬酸洗液,这两种清洗液对环境的污染很小,操作相对方便。

  2.超声波在清洗中的作用

  目前在半导体生产清洗过程中已经广泛采用超声波清洗技术。超声波清洗有以下优点:

  (1)清洗效果好,清洗手续简单,减少了由于复杂的化学清洗过程中而带来的杂质的可能性;

  (2)对一些形状复杂的容器或器件也能清洗。

  超声波清洗的缺点是当超声波的作用较大时,由于震动磨擦,可能使硅片表面产生划道等损伤。

  超声波产生的原理:高频震荡器产生超声频电流,传给换能器,当换能器产生超声震动时,超声震动就通过与换能器连接的液体容器底部而传播到液体内,在液体中产生超声波。

  3.真空高温处理的清洗作用

  硅片经过化学清洗和超声波清洗后,还需要将硅片真空高温处理,再进行外延生长。真空高温处理的优点:

  (1)由于硅片处于真空状态,因而减少了空气中灰尘的玷污;

  (2)硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加,因而真空高温易除去;

  (3)硅片可能玷污的一些固体杂质在真空高温条件下,易发生分解而除去。

<上一页  1  2  3  
声明: 本网站所刊载信息,不代表OFweek观点。刊用本站稿件,务经书面授权。未经授权禁止转载、摘编、复制、翻译及建立镜像,违者将依法追究法律责任。

发表评论

0条评论,0人参与

请输入评论内容...

请输入评论/评论长度6~500个字

您提交的评论过于频繁,请输入验证码继续

暂无评论

暂无评论

太阳能光伏 猎头职位 更多
文章纠错
x
*文字标题:
*纠错内容:
联系邮箱:
*验 证 码:

粤公网安备 44030502002758号